Elévation de sinus par voie crestale, que peut on espérer ?

L'élévation du plancher du sinus par abbord crestale est une technique moins invasives que le "sinus-lift" (par abbord latéral)
On va utiliser ici des ostéotomes qui permettent d'augmenter par compression la hauteur et la densité osseuse et donc d'améliorer la stabilité primaire des implants. Les suites opératoires sont minimisées.
Cette technique montre un taux de survie implantaire de 96% à 3 ans (Emmerich 2005).
La hauteur osseuse résiduelle nécessaire varie selon les hauteurs.
Pour Summers c'est 5 à 6mm qui sont nécessaires.
Pour Wallace une hauteur de 3mm permet de placer un implant de 9mm.
Cependant on observe que la hauteur du comblement osseux de la partie apicale de l'implant diminue en moyenne de 1,52 à 0,29 à un an en raison des remodelages osseux.
Le risque de perforation de la membrane de Schneider augmenter significativement à partir d'une élévation de plus de 5mm.
Concernant l'utilisation conjointe d'un matériaux de comblement lors de l'intervention, là encore il y a discussion. Nedir a montré en 2006 qu'il y avait une reformation osseuse razdiographiquement vsible persistant à un ana et entrainant une résistance au dévissage d'un minimum de 35 N/cm. Il semblerait que l'important soit le maintien d'espacement mais d'autres auteurs repproche l'effet de « cloche » ainsi créé autour des implants.
Quant aux implants à privilégier pour l'élévation de sinus par voie cretsale ce serait plutôt des implants de forme « racines » et de de surfaces rugueuses dans les hauteurs résiduelles faibles. Un sous dimensionnement du lit implantaire permet d'augmenter encore la stabilité primaire.
Si un protocole non enfoui est suivi, une vis de cicatrisation évasée peut être intéressante.
On peut espérer un délai de cicatrisation de 3 à 6 mois selon la hauteur d'os résiduel et la stabilité primaire de l'implant.
Cette technique est amenée à se développer, de nouveaux systèmes ont vue le jour comme Intralift ® de Satelec qui permet de soulever la membrane sinusienne régulièrement et de manière périphérique par rapport au forage avec un risque de déchirement très diminué…
Avec l'utilisation de l'insert TKW5, on propose le protocole suivant : un orifice situé au milieu de la platerfome de l'insert permet de diffuser du sérum physiologique sous pression activé par des ultrasons afin de décoller la membrane sinusienne de manière péripohérique par rapport à l'orifice (Puissance mode 2-3 pendant 5 secondes avec irrigation de 40ml/mi,, 5secondes à 50ml/min puis 5 secondes à 60ml/min. Du Bio Oss est inséré avec des fouloirs dans l'espace nouvellement créé.

Source : résumé d'après un article du Dr Yves Lauverjat et Dr Eric Normand dans Le fil dentaire n° 35 Sept 2008
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